Реверсивная поляризационная голографическая запись в многослойных наноструктурах As2S3-Se
Închide
Conţinutul numărului revistei
Articolul precedent
Articolul urmator
114 0
Căutarea după subiecte
similare conform CZU
681.785.552 (1)
Mecanisme și instrumente de precizie. Mecanică de precizie. Mecanică fină (18)
SM ISO690:2012
МЕШАЛКИН, А.Ю.. Реверсивная поляризационная голографическая запись в многослойных наноструктурах As2S3-Se. In: Электронная обработка материалов. 2017, nr. 6(53), pp. 97-104. ISSN 0013-5739.
EXPORT metadate:
Google Scholar
Crossref
CERIF
BibTeX
DataCite
Dublin Core
Электронная обработка материалов
Numărul 6(53) / 2017 / ISSN 0013-5739 /ISSNe 2345-1718

Реверсивная поляризационная голографическая запись в многослойных наноструктурах As2S3-Se


CZU: 681.785.552
DOI: 10.5281/zenodo.1051276
Pag. 97-104

Мешалкин А.Ю.
 
Институт прикладной физики
 
Disponibil în IBN: 26 decembrie 2017


Rezumat

Исследован процесс поляризационной голографической записи дифракционных решеток и их последующего стирания в многослойной наноструктуре As2S3-Se. Изучено влияние предварительной засветки актиничным лазерным излучением до полного насыщения фотостимулированных изменений оптических свойств на формирование дифракционных решеток в исследуемой структуре. Показано, что засветка многослойной наноструктуры (МНС) As2S3-Se актиничным светом приводит к фотопросветлению, а величина максимально достижимой дифракционной эффективности (ДЭ), равной 35%, при записи решеток не изменяется, но необходимая экспозиция до достижения максимума увеличивается. Также показано, что экспозиция одним лучом приводит к полному стиранию записанной до максимума дифракционной решетки. Проведенные семь циклов записи-стирания показали, что кинетика роста ДЭ и ее максимальная величина не изменяются, что указывает на то, что на МНС As2S3-Se осуществима реверсивная голографическая запись при ортогональной циркулярной поляризации. Исследование полученных решеток на атомном силовом микроскопе (АСМ) свидетельствует, что основным фактором, определяющим значение ДЭ записанных решеток, является модуляция рельефа, глубина которого составляет более 200 нм

Polarization holographic recording of diffraction gratings and their subsequent erasing was investigated on As2S3-Se multilayer nanostructures. The influence of pre-exposure up to complete photo-induced changes of optical properties on diffraction gratings recording was studied. It was shown that pre-exposure of As2S3-Se multilayer nanostructure led to photo-bleaching and the maximum achievable diffractive efficiency equivalent to 35% did not change, but the required value of exposure was increased. Thus, we have shown that we are responsible for the use of a stylus to the maximum diffraction gratings. In addition it was shown that exposure by one laser beam led to complete erasure of recorded up to maximum diffraction grating. The performed 7 cycles of recording-erasing showed that the kinetics of the diffraction efficiency growth and its maximal value did not change that indicated that As2S3-Se multilayer structure is capable for reversible holographic recording in orthogonal circular polarizations. AFM measurements of recorded gratings showed that the main factor determining the diffraction efficiency value was surface relief modulation up to 200 nm.  

Cuvinte-cheie
халькогенидные многослойные наноструктуры, реверсивная голографическая запись, прямое формирование поверхностного рельефа, дифракционная эффективность.