Straturi subțiri semiconductoare preparate în sisteme de pulverizare cu magnetron (DC): teorie VZ experiment (I)
Close
Conţinutul numărului revistei
Articolul precedent
Articolul urmator
508 24
Ultima descărcare din IBN:
2024-03-05 15:19
Căutarea după subiecte
similare conform CZU
621.793 (28)
Mechanical technology in general: processes, tools, machines, equipment (145)
SM ISO690:2012
NAROLSCHI, Igor, CLIUCANOV, Alexandr, ROTARU, Corneliu, RUSU, Marin, VATAVU, Sergiu. Straturi subțiri semiconductoare preparate în sisteme de pulverizare cu magnetron (DC): teorie VZ experiment (I). In: Studia Universitatis Moldaviae (Seria Ştiinţe Exacte şi Economice), 2020, nr. 7(137), pp. 14-18. ISSN 1857-2073. DOI: https://doi.org/10.5281/zenodo.4457422
EXPORT metadate:
Google Scholar
Crossref
CERIF

DataCite
Dublin Core
Studia Universitatis Moldaviae (Seria Ştiinţe Exacte şi Economice)
Numărul 7(137) / 2020 / ISSN 1857-2073 /ISSNe 2345-1033

Straturi subțiri semiconductoare preparate în sisteme de pulverizare cu magnetron (DC): teorie VZ experiment (I)

Semiconductor thin films prepared by magnetron sputterting (DC): THEORY VS experiment (I)

DOI:https://doi.org/10.5281/zenodo.4457422
CZU: 621.793

Pag. 14-18

Narolschi Igor, Cliucanov Alexandr, Rotaru Corneliu, Rusu Marin, Vatavu Sergiu
 
Universitatea de Stat din Moldova
 
Proiecte:
 
Disponibil în IBN: 29 ianuarie 2021


Rezumat

Caracteristica curent-tensiune a sistemului de pulverizare cu magnetron (DC) depinde în formă pătratică de trei parametri, unul dintre care este egal cu potențialul de aprindere a descărcării gazului, pe când ceilalți doi parametri se determină experimental din caracteristica curent-tensiune pentru valori mici sau mari ale tensiunii aplicate sistemului.

The current-voltage dependencies of a DC magnetron system depend, as a square function, on three parameters, one of those being equal to the ignition potential in gas discharge, while the other two are being determined experimentally by use of experimental curves for low/high applied voltages.

Cuvinte-cheie
sistem de pulverizare cu magnetron, caracteristica curent-tensiune, descărcare în gaz,

magnetron sputtering system, current vs voltage dependence, gas discharge