Conţinutul numărului revistei |
Articolul precedent |
Articolul urmator |
508 24 |
Ultima descărcare din IBN: 2024-03-05 15:19 |
Căutarea după subiecte similare conform CZU |
621.793 (28) |
Mechanical technology in general: processes, tools, machines, equipment (145) |
SM ISO690:2012 NAROLSCHI, Igor, CLIUCANOV, Alexandr, ROTARU, Corneliu, RUSU, Marin, VATAVU, Sergiu. Straturi subțiri semiconductoare preparate în sisteme de pulverizare cu magnetron (DC): teorie VZ experiment (I). In: Studia Universitatis Moldaviae (Seria Ştiinţe Exacte şi Economice), 2020, nr. 7(137), pp. 14-18. ISSN 1857-2073. DOI: https://doi.org/10.5281/zenodo.4457422 |
EXPORT metadate: Google Scholar Crossref CERIF DataCite Dublin Core |
Studia Universitatis Moldaviae (Seria Ştiinţe Exacte şi Economice) | |||||||
Numărul 7(137) / 2020 / ISSN 1857-2073 /ISSNe 2345-1033 | |||||||
|
|||||||
DOI:https://doi.org/10.5281/zenodo.4457422 | |||||||
CZU: 621.793 | |||||||
Pag. 14-18 | |||||||
|
|||||||
Descarcă PDF | |||||||
Rezumat | |||||||
Caracteristica curent-tensiune a sistemului de pulverizare cu magnetron (DC) depinde în formă pătratică de trei parametri, unul dintre care este egal cu potențialul de aprindere a descărcării gazului, pe când ceilalți doi parametri se determină experimental din caracteristica curent-tensiune pentru valori mici sau mari ale tensiunii aplicate sistemului. |
|||||||
Cuvinte-cheie sistem de pulverizare cu magnetron, caracteristica curent-tensiune, descărcare în gaz, magnetron sputtering system, current vs voltage dependence, gas discharge |
|||||||
|