Пропускание ультракоротких импульсов лазерного излучения тонкой пленкой полупроводника в условиях возбуждения экситонов и биэкситонов
Închide
Articolul precedent
Articolul urmator
680 1
Ultima descărcare din IBN:
2018-10-02 16:13
SM ISO690:2012
КОРОВАЙ, А, МАНГИР, А., HADJI, Piotr. Пропускание ультракоротких импульсов лазерного излучения тонкой пленкой полупроводника в условиях возбуждения экситонов и биэкситонов. In: Telecommunications, Electronics and Informatics, Ed. 6, 24-27 mai 2018, Chișinău. Chișinău, Republica Moldova: 2018, Ed. 6, pp. 80-84. ISBN 978-9975-45-540-4.
EXPORT metadate:
Google Scholar
Crossref
CERIF

DataCite
Dublin Core
Telecommunications, Electronics and Informatics
Ed. 6, 2018
Conferința "Telecommunications, Electronics and Informatics"
6, Chișinău, Moldova, 24-27 mai 2018

Пропускание ультракоротких импульсов лазерного излучения тонкой пленкой полупроводника в условиях возбуждения экситонов и биэкситонов


Pag. 80-84

Коровай А1, Мангир А.1, Hadji Piotr2
 
1 Приднестровский Государственный Университет им. Т.Г.Шевченко,
2 Институт прикладной физики АНМ
 
 
Disponibil în IBN: 29 mai 2018


Rezumat

Рассмотрена задача нестационарного пропускания двух падающих на тонкую пленку ультракоротких импульсов лазерного излучения. Один из падающих импульсов находится в резонансе с двухфотонным переходом из основного состояния кристалла в биэкситонное, тогда как другой когерентно смешивает экситонное и биэкситонное состояния. Исследовано влияние амплитуд и ширин падающих импульсов на особенности их пропускания пленкой. Предсказан эффект существенной временной задержки в генерации проходящего через пленку импульса относительно падающего. Доказана возможность генерации прекурсора, т.е. импульса, проходящего через пленку раньше, чем пик падающего импульса достигнет пленки, а также возможность генерации отраженного импульса в отсутствии падающего.