Экситонные состояния в квантовых точках Si/SiO2
Închide
Conţinutul numărului revistei
Articolul precedent
Articolul urmator
851 4
Ultima descărcare din IBN:
2024-02-02 15:22
SM ISO690:2012
ИСАКОВА, Калина, НИКА, Денис, ПОКАТИЛОВ, Евгений. Экситонные состояния в квантовых точках Si/SiO2. In: Studia Universitatis Moldaviae (Seria Ştiinţe Reale şi ale Naturii), 2008, nr. 2(12), pp. 232-236. ISSN 1814-3237.
EXPORT metadate:
Google Scholar
Crossref
CERIF

DataCite
Dublin Core
Studia Universitatis Moldaviae (Seria Ştiinţe Reale şi ale Naturii)
Numărul 2(12) / 2008 / ISSN 1814-3237 /ISSNe 1857-498X

Экситонные состояния в квантовых точках Si/SiO2

Pag. 232-236

Исакова Калина, Ника Денис, Покатилов Евгений
 
Молдавский Государственный Университет
 
 
Disponibil în IBN: 16 decembrie 2013


Rezumat

În lucrare este dezvoltată teoria stărilor electronice, de gol şi excitonice pentru punctul cuantic din Si, plasat în mediul dielectric. A fost cercetată dependenţa pătrunderii în mediul dielectric de înălţimea barierei potenţiale şi a fost demonstrat că nanostructurile de acest tip pot fi utilizate cu succes în optoelectronică şi biomedicină. De asemenea, a fost studiată dependenţa energiei de legătură a excitonului de înălţimea barierei potenţiale.

In this paper we report on the development of the theory of electron, hole and exciton states in silicon quantum dots imbedded into the dielectric medium. The dependence of the charge carrier penetration into the external dielectric media on the height of the potential barrier has been investigated and it has been demonstrated the high potential of such nanostructures for their applicability in optoelectronics and biomedicine. The dependence of the exciton binding energy on the barrier height has been also investigated.