SiO2-P2O5 films doped with CdSe have been prepared and investigated for temperature sensors applications. The films have been synthesized by sol-gel method, spin coating technique, the deposition being made on glass substrates. The sols have been prepared from tetraethylorthosilicate (TEOS) and phosphoric acid as precursors for SiO2 and P2O5, respectively, together with ethanol and water as reaction environment and a hydrolysis reagent, respectively. The films have been deposited at three rotation rates: 1000 rpm, 2000 rpm and 3000 rpm, starting on the first day after the sol preparation moment and going on, four days consecutively, and then on the eighth day. We have analyzed the influence of the rotation rate and the time elapsed since the sol preparation till the deposition moment on the structural properties of the doped films. The films deposited at each rotation rate have been annealed at 200oC, 300oC, 350oC, 400oC, and 550oC in order to investigate the structural modifications noticed during the formation process of silicophosphate network.

Изготовлены пленки SiO2-P2O5, легированные селенидом кадмия (CdSe), и исследованы их свойства с целью применения в качестве температурных датчиков (сенсоров). Пленки синтезированы золь-гель ме- тодом с использованием техники напыления вращением (spin coating technique); нанесение пленок проводилось на подложках из стекла. При изготовлении золя в качестве прекурсоров для SiO2 и P2O5 исполь- зовались, соответственно, тетраэтилортосиликат (TEOS) и фосфорная кислота. Этанол служил растворителем, а вода использовалась как реагент для гидролиза. Пленки наносились при трех скоростях вращения: 1000, 2000 и 3000 рот/мин, начиная с одного дня после изготовления золя до четвертого дня, соответственно, затем после восьмого дня. Проанализировано влияние скорости ротации и времени, пройденного с момента изготовления пленок до момента их нанесения, на структурные свойства легированных пленок. Нанесенные пленки при каждой скорости ротации были отожжены при температурах 200, 300, 350, 400 и 550oC с целью исследования структурных модификаций в процессе образования силикофосфатной решетки.