Conţinutul numărului revistei |
Articolul precedent |
Articolul urmator |
819 1 |
Ultima descărcare din IBN: 2023-06-16 13:28 |
SM ISO690:2012 ВЫСИКАЙЛО, Филипп. Детализация и общая модель электронной обработки поверхностей заряженных плазмоидов (от атомных ядер до белых карликов, нейтронных звезд и ядер галактик). Часть III. Поведение, модификация и синергетизм плазменных положительно заряженных кумулятивнод . In: Surface Engineering and Applied Electrochemistry, 2013, nr. 3(49), pp. 43-57. ISSN 1068-3755. |
EXPORT metadate: Google Scholar Crossref CERIF DataCite Dublin Core |
Surface Engineering and Applied Electrochemistry | ||||||
Numărul 3(49) / 2013 / ISSN 1068-3755 /ISSNe 1934-8002 | ||||||
|
||||||
Pag. 43-57 | ||||||
|
||||||
Descarcă PDF | ||||||
Rezumat | ||||||
Проведен анализ 3D архитектуры кумуляции и диссипации энергомассовоимпульсных потоков в плазменные КДС при внешнем воздействии на эти структуры дальнодействующего электрического поля. Рассмотрены: 1) взаимодействия внешних электрических полей с квазистационарными положительно заряженными плазмоидами (плазменными КДС), в которых в результате кумуляции электронов происходит формирование кумулятивных струй высокоэнергетичных электронов; 2) кластеризация отдельных плазмоидов в их регулярные системы – диссипативные «кристаллы» и 3) синергетические эффекты, обусловленные слиянием КДС. |
||||||
Cuvinte-cheie кумуляция, положительно заряженный плазмоид, кумулятивные струи, точка либрации-кумуляции, синергетика |
||||||
|