Исследование процессов генерации носителей заряда в мдп-структурах с диэлектриком на основе свинцово-боросиликатных стёкол
Închide
Conţinutul numărului revistei
Articolul precedent
Articolul urmator
845 2
Ultima descărcare din IBN:
2022-11-09 19:09
SM ISO690:2012
ПАРЧИНСКИЙ, П., НАСИРОВ, А., ИСМАЙЛОВ, К., ЛИГАЙ, Л., АЛЛАМБЕРГЕНОВ, М.. Исследование процессов генерации носителей заряда в мдп-структурах с диэлектриком на основе свинцово-боросиликатных стёкол . In: Электронная обработка материалов, 2012, nr. 2(48), pp. 104-109. ISSN 0013-5739.
EXPORT metadate:
Google Scholar
Crossref
CERIF

DataCite
Dublin Core
Электронная обработка материалов
Numărul 2(48) / 2012 / ISSN 0013-5739 /ISSNe 2345-1718

Исследование процессов генерации носителей заряда в мдп-структурах с диэлектриком на основе свинцово-боросиликатных стёкол

Pag. 104-109

Парчинский П., Лигай Л., Насиров А., Алламбергенов М., Исмайлов К.
 
Национальный университет Узбекистана имени Мирзо Улугбека
 
 
Disponibil în IBN: 18 ianuarie 2014


Rezumat

The generation properties of the silicon – lead-borosilicate glass interface are studied by the method of pulsed MIS capacitor. It was shown that surface generation current nomonotonicly depends on temperature. This nomonotonic dependence may be the result of tunnel and tunnel activated current from traps states in lead-borosilicate glasses localized close to the silicon-glass interface which contributes to the total surface generation current and becomes dominant with decreasing temperature.

При помощи метода изотермической релаксации неравновесной ёмкости МДП-структуры исследованы генерационные характеристики границы раздела кремний–свинцово-боросиликатное стекло. Установлено, что величина поверхностного генерационного тока немонотонно зависит от температуры. Показано, что обнаруженная немонотонность может быть результатом наличия в общей величине поверхностного генерационного тока компоненты, связанной с наличием токов туннельной и туннельно-активационной перезарядки ловушечных центров, локализованных в стекле вблизи границы с кремнием, которая становится доминирующей при понижении температуры.