Анализ ионизационных процессов в электроразрядных датчиках низкого давления
Închide
Conţinutul numărului revistei
Articolul precedent
Articolul urmator
731 2
Ultima descărcare din IBN:
2022-03-01 15:14
SM ISO690:2012
ЖАКИН, А., ЛУЦЕНКО, А.. Анализ ионизационных процессов в электроразрядных датчиках низкого давления . In: Электронная обработка материалов, 2012, nr. 2(48), pp. 79-85. ISSN 0013-5739.
EXPORT metadate:
Google Scholar
Crossref
CERIF

DataCite
Dublin Core
Электронная обработка материалов
Numărul 2(48) / 2012 / ISSN 0013-5739 /ISSNe 2345-1718

Анализ ионизационных процессов в электроразрядных датчиках низкого давления

Pag. 79-85

Жакин А., Луценко А.
 
Юго-Западный Государственный университет
 
 
Disponibil în IBN: 18 ianuarie 2014


Rezumat

The analysis of plasma-chemical reaction in nitrogen-oxygen plasma of low pressure (p > 1 Pa) in electric field is given. The basic system of equation is proposed. It is shown on the VAC data the gas pressure can be determined.

Дан анализ плазмохимических реакций в азотно-кислородной плазме низкого давления (p ≥ 1 Па). Сформулирована система уравнений, на основании которой находится ВАХ. Показано, что по результатам измерения ВАХ можно однозначно найти давление в газе.