Evoluarea particulelor dispersate de ALN depuse pe si prin metoda HVPE la etapa de formare a stratului continuu
Închide
Conţinutul numărului revistei
Articolul precedent
Articolul urmator
883 0
SM ISO690:2012
RAEVSCHI, Simion, COMPAN, Mihail, ZHILYAEV, Yurii, GORCEAC, Leonid, BOTNARIUC, Vasile. Evoluarea particulelor dispersate de ALN depuse pe si prin metoda HVPE la etapa de formare a stratului continuu . In: Studia Universitatis Moldaviae (Seria Ştiinţe Exacte şi Economice), 2011, nr. 2(42), pp. 84-88. ISSN 1857-2073.
EXPORT metadate:
Google Scholar
Crossref
CERIF

DataCite
Dublin Core
Studia Universitatis Moldaviae (Seria Ştiinţe Exacte şi Economice)
Numărul 2(42) / 2011 / ISSN 1857-2073 /ISSNe 2345-1033

Evoluarea particulelor dispersate de ALN depuse pe si prin metoda HVPE la etapa de formare a stratului continuu

Pag. 84-88

Raevschi Simion1, Compan Mihail2, Zhilyaev Yurii2, Gorceac Leonid1, Botnariuc Vasile1
 
1 Centrul de Cercetări Ştiinţifice „Materiale şi Dispozitive Semiconductoare“,
2 Institutul Fizico-Tehnic A.F.Ioffe al AŞ din Sanct-Petersburg
 
 
Disponibil în IBN: 15 decembrie 2013


Rezumat

Evolution of growth of the disperse particles of AlN which has been grown up on substrates of silicon during formation of a continuous layer are studies by AFM (Atomic Force Microscopy ) method. Layers have been grown up by HVPE (Hydride Vapor Phase Epitaxy) method at 1100oC. It is established: a) nunucleation occurs according to three dimensional model; b) layers are formed of two categories of disperse particles; c) growth rate of categories differ; d) at an initial stage of growth there is a latent period of time when superficial concentration of disperse particles remains to a constant.