Вопрос стабильности полимерных термопластических (ТП) слоёв и двухслойных фототермопластических носителей (ФТПН) для электрофотографии интенсивно изучался в НИЛ ФТПЗ при Молдавском государственном университете в 1970 – 1980 годах. Из работ авторов Л.М.Панасюка, О.Я.Коршака, С.В.Робу можно отметить, что из множества испытанных термопластиков, привезенных и синтезированных в Молд.ГУ, наибольший интерес и применение показали слои из сополимера стирола с бутилметакрилатом, зашифрованного как термопластик БМА – 50. ТП слои из данного материала выдерживают в коронном разряде более тысячи циклов действия короны. На этих слоях возможна регистрация как обычных, так и голографических изображений с дифракционной эффективностью (ДЭ) до 10% и разрешающей способностью R = 1000  mm-1. Однако в связи с поиском более эффективных термопластиков выбран интересный олигомер полиэпоксипропилкарбазол (ПЭПК) с молекулярной массой М=2000 а.е.м.Двухслойный ФТПН с ТП слоем из ПЭПК позволяет регистрировать дифракционные решётки с ДЭ до 16% и разрешающей способностью более 1000 mm-1. Показано, что дифракционная эффективность и разрешающая способность зависят от толщины термопластического слоя (рис.1).Наиболее оптимальные значения ДЭ и R, как видно из рисунка, получены при толщинах 0,4 – 0,5 µm. Но слои из полиэпоксипропилкарбазола очень неустойчивы при действии коронного разряда.Как показали исследования, буквально на втором  цикле «запись – стирание» наблюдается ухудшение качества изображений более чем на 50%, связанное с ухудшением деформационной способности ТП слоёв, по-видимому, из-за их дальнейшей полимеризации и структурирования. Для исследования влияния коронного заряда слои ПЭПК наносились на кремниевую подложку, и на них воздействовали полем коронного разряда в течение 10 и 100 сек. Из ИК-спектров видно (рис.2,3), что при воздействии поля коронного разряда в течение 10 сек, и особенно в течение 100 сек происходит заметное уменьшение вибрационных полос при частоте ν = 3300 – 3500 см-1, связанное с исчезновением гидроксильных групп. Рост фона связан с присутствием остаточной деформации на ТП слое. Таким образом, из двух термопластических материалов − БМА-50 и ПЭПК, первый является устойчивым к коронному разряду, а второй, обладающий превосходными деформационными характеристиками, очень легко претерпевает изменения в коронном разряде, что ведёт к ухудшению характеристик при многократной записи голограмм.